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醫(yī)藥膠囊混懸液高剪切膠體磨

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱太倉希德機械科技有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號XMD2000
  • 所  在  地蘇州市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時間2021/2/22 16:34:59
  • 訪問次數(shù)682
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太倉希德機械科技有限公司坐落在享有“德企之鄉(xiāng)”之稱的太倉,公司成立伊始便與眾多德資企業(yè)有技術(shù)方面的交流合作,通過結(jié)合德國*技術(shù)和科學管理模式,形成了完整的研發(fā),組裝,檢測,及營銷體系。著力打磨混合領域*產(chǎn)品,為客戶提供*的流體設備和成套工藝技術(shù)解決方案,包括研磨、乳化、分散、均質(zhì)、攪拌、混合、干燥、冷卻、燒結(jié)、熔融等工藝,提供工業(yè)生產(chǎn)中真空乳化機成套設備、粉體自動化配料系統(tǒng)、交鑰匙工程大成套設備、多功能成套生產(chǎn)系統(tǒng)工藝過程監(jiān)測、DCS 控制技術(shù)等。

公司產(chǎn)品已廣泛應用于食品工業(yè)、生物醫(yī)藥、日常護理品、納米材料、涂料油墨、石油化工、印染助劑、造紙工業(yè)、農(nóng)藥化肥、塑料橡膠、電力電子,精細化工、等行業(yè)。在新型高分子材料化工材料、精細化工,如石墨烯,瀝青,新型鋰電池,化妝品,制藥應用尤為顯著及廣泛。

公司位于風景優(yōu)美的千年古鎮(zhèn)沙溪鎮(zhèn),交通位置*,公司處于G15沈海高速沙溪出口,距離滬通高鐵太倉站10公里,距離上海虹橋樞紐(虹橋機場、高鐵站)1小時車程,距離太倉港15公里。

“行有矩,為有道,事可成”是希德人給世界的承諾,服務萬千用戶,不忘初心,勇往直前。

乳化機,均質(zhì)機,分散機,研磨機,膠體磨,離心干燥機,真空乳化機成套設備,粉體自動化配料系統(tǒng),交鑰匙工程大成套設備,多功能成套生產(chǎn)系統(tǒng)工藝過程監(jiān)測,DCS 控制技術(shù)
應用領域 其它
醫(yī)藥膠囊混懸液高剪切膠體磨具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
醫(yī)藥膠囊混懸液高剪切膠體磨 產(chǎn)品信息

醫(yī)藥膠囊混懸液高剪切膠體磨

 

醫(yī)藥膠囊膠體磨,膠囊膠體磨 醫(yī)藥乳液膠體磨,軟膠囊內(nèi)容物研磨分散機,軟膠囊內(nèi)容物膠體磨,膠囊膠體磨,改良型膠體磨,醫(yī)藥混懸液膠體磨,此款醫(yī)藥改良型膠體磨不僅轉(zhuǎn)速高達14000rpm,并且在傳統(tǒng)膠體磨的基礎上加入了一組分散盤,先研磨后分散,物料粒徑更細,更穩(wěn)定!

軟膠囊制劑多用于非水溶性、對光敏感、遇濕熱不穩(wěn)定、易氧化額揮發(fā)的藥物。它密封嚴密、用量精確、生物利用度高,藥物的穩(wěn)定性也得到提升,此外還有掩蓋不良嗅味的作用。實驗證明,口服制劑的生物利用度,以內(nèi)容物為溶液的軟膠囊,混懸液次之,再次為含顆粒的硬膠囊,差為片劑。

近年來,超微粉碎技術(shù)逐漸應用到軟膠囊領域,通過研究發(fā)現(xiàn),藥材經(jīng)過超微化粉碎后,粉末粒徑大小分布均勻,球性度和均質(zhì)度明顯改善,這些細粉較易混懸在水或者溶劑以及植物油當中,質(zhì)量較為穩(wěn)定。另外隨著軟膠囊行業(yè)的發(fā)展,對于膠囊的內(nèi)容物的處理,出現(xiàn)的大量的設備,如:膠體磨、均質(zhì)機、分散機等。這些設備通過對內(nèi)容物的剪切,從內(nèi)容物粒徑更加細化,粉末分散更加均勻。而ikn應對這種情況,研發(fā)出了的設備,改良性膠體磨,該膠體磨結(jié)合了高剪切膠體磨和高剪切分散機的特點,將二者一體,形成的設備,我們也將它定義為“研磨分散機”

 

研磨分散機,對于軟膠囊的生產(chǎn)有著巨大的優(yōu)勢,對于軟膠囊內(nèi)容物的處理十分有效,無論內(nèi)容物是乳液還是混懸液,都可以將物料充分的細化,提高物料的穩(wěn)定性和藥效。改良型膠體磨的作用力體現(xiàn)在它的剪切力和作用刀頭,IKN改良型膠體磨,研磨分散機,有一級膠體磨頭和一級分散盤,對物料先研磨后分散機,再配合14000rpm的轉(zhuǎn)速,乳液粒徑一般可細化至1-2微米,混懸液一般可細化至3-5微米,當然這也要根據(jù)具體的物料性質(zhì)和工藝來定。


XMD2000系列改良型膠體磨,研磨分散設備是希德公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
 

改良型膠體磨,研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。


級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。


第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。

              
XMD2000系列軟膠囊內(nèi)容物研磨分散機的特點:

①   線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

XMD2000進口超高剪切研磨分散機
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

以下為型號表供參考:

型號

標準流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標準線速度

m/s

馬達功率

KW

進口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

醫(yī)藥膠囊混懸液高剪切膠體磨

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